Intel, Samsung oraz Toshiba łączą siły, aby opracować technologię wytwarzania układów w zaledwie 10 nanometrowym procesie produkcyjnym.

Owe firmy planują powołać do życia specjalne konsorcjum, do którego w dłuższej perspektywie dołączy kilkanaście innych firm oraz organizacji działających w branży półprzewodnikowej i jej pokrewnych. Na początkowym etapie projektu ma zostać zainwestowanych około 10 milionów jenów czyli około 122 milionów dolarów, z czego prawdopodobnie połowę przekaże Ministerstwo Gospodarki, Handlu i Przemysłu Japonii.

Produkcja w tym zadziwiającym rozmiarze technologicznym ma się rozpocząć już w 2016 roku. A jest to przecież niewyobrażalny proces, przecież 10 nm to zaledwie kilka atomów. Toshiba i Samsung zamierzają dzięki tym pracom budować swoje układy pamięci flash NAND, zaś Intel zajmie się co oczywista procesorami.

Dla przypomnienia, obecnie najbardziej zaawansowane układy Intela produkowane są w procesie 32 nanometrów. W przyszłym roku oczekuje się, że Intel powoli przejdzie na mniejszy, 22 nanometrowy proces, a następnie być może 15nm. Wdrażanie coraz to dokładniejszych procesów produkcyjnych sprzyja głównie zwiększaniu żywotności akumulatorów w urządzeniach przenośnych, obniża koszty produkcji oraz pozwala na dodawanie nowych funkcji do układów, a same układy stają się coraz wydajniejsze.

Źródło: compulenta